我想研发光刻机，大学学什么专业

1. 我想研发光刻机，大学学什么专业

发光刻机研发涉及多个专业，光学、机械加工、电子电路、化学等。
光刻机涉及到的知识有：光学、机械加工、电子电路、化学等多个学科知识。光刻机的主要性能指标有：支持基片的尺寸范围，分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等。分辨率是对光刻工艺加工可以达到的最细线条精度的一种描述方式。
光刻的分辨率受受光源衍射的限制，所以与光源、光刻系统、光刻胶和工艺等各方面的限制。对准精度是在多层曝光时层间图案的定位精度。曝光方式分为接触接近式、投影式和直写式。

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光刻机的发展光刻机：
光刻机作为集成电路制造中最关键的设备，对芯片制作工艺有着决定性的影响，被誉为“超精密制造技术皇冠上的明珠”，制造和维护均需要高度的光学和电子工业基础。
光刻机工作原理跟照相机类似，不过它的底片是涂满光刻胶的硅片，各种电路图案经激光缩微投影曝光到光刻胶上，光刻胶的曝光部分与硅片进行反应，将其永久刻在硅片上，这就是芯片生产最重要的步骤。
由于制造光刻机具有极高的技术和资金门槛，目前全球光刻机市场基本被荷兰的阿斯麦、日本的尼康和佳能三家企业垄断。

2. 研究光刻机得学什么专业

光刻机涉及到的知识有光学、机械加工、电子电路、化学等多个学科知识。可学电子技术类专业，比如微电子与固体电子专业。                    扩展资料                      光刻机又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的`精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。

3. 研究光刻机应该学什么专业?

研究光刻机应该学光电，或者（应用）物理（传统光学方向）都可以。
光刻机的研发本来就是集光学，电子，机械，软件，算法，物理，微电子等多学科为一体的，大部分理工科都可以在这个学科中找到对应的职位。
先进光刻机荷兰ASML一家独大，在中国的研发也比较少（上海和深圳有，但偏重软件方向），大部分都是装机修机现场服务技术支持。你要做研发，先考上至少985的本科，再读硕士，这是最起码的。
如果你要去美国或荷兰的ASML工资，如果是非计算机专业，最好去欧美读到博士。如果你只是硕士，最好读计算机方向。因为在光刻机的研发中，对软件的学历门槛是最低的（牛逼的学CS的都去互联网了，来你硬件公司干啥）。

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我是集成电路专业的，大家都知道光刻机用于芯片制造，可是大学里面集成电路专业一般来说有两个方向，一个是电路方向，一个是器件方向。
这两个方向都会学集成电路工艺基础课，但是都是宏观介绍一下，涉及到光刻部分也就给你看看图片。电路方向的话是不会见到真光刻机的，器件方向会着重教你如何去使用光刻机制作微电子器件，但是也不会教你去设计光刻机。

4. 光刻机哪国家研制的

全世界只有中国、日本、荷兰可以制造光刻机，日本的代表企业是尼康、佳能，曾经的光刻机“王者”，后来被荷兰ASML反超后就一蹶不振了，而中国也可以制造光刻机，只是达不到顶尖光刻机的精细程度。
目前，荷兰ASML一家公司几乎垄断了全球的高端光刻机市场，主要是EUV光刻机，造价极高，暂时没有一家竞争企业可以与之匹敌，每年稳定向大客户供货。

光刻机的分类
光刻机一般根据操作的简便性分为三种，手动、半自动、全自动。
1、手动：指的是对准的调节方式，是通过手调旋钮改变它的X轴，Y轴和thita角度来完成对准，对准精度可想而知不高了。
2、半自动：指的是对准可以通过电动轴根据CCD的进行定位调谐。
3、自动：指的是从基板的上载下载，曝光时长和循环都是通过程序控制，自动光刻机主要是满足工厂对于处理量的需要。

5. 我们何时能研发制造出自己的高端光刻机呢？

比造原子弹还难？中国能造出高端光刻机吗？（一）

6. 光刻机专业应该学什么

光刻机涉及到的知识有光学、机械加工、电子电路、化学等多个学科知识。可学电子技术类专业，比如微电子与固体电子专业。                    扩展资料                      光刻机又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。

7. 什么是光刻技术？

光刻技术主要应用在微电子中。它一般是对半导体进行加工，需要一个有部分透光部分不透光的掩模板，通过曝光、显影、刻蚀等技术获得和掩模板一样的图形。先在处理过后的半导体上涂上光刻胶，然后盖上掩模板进行曝光；其中透光部分光刻胶的化学成分在曝光过程中发生了变化；之后进行显影，将发生化学变化的光刻胶腐蚀掉，裸露出半导体；之后对裸露出的半导体进行刻蚀，最后把光刻胶去掉就得到了想要的图形。光刻技术在微电子中占有很大的比重，比如微电子技术的进步是通过线宽来评价的，而线宽的获得跟光刻技术有很大的关系。
光刻技术就是在需要刻蚀的表面涂抹光刻胶，干燥后把图形底片覆盖其上，有光源照射，受光部分即可用药水洗掉胶膜，没有胶膜的部分即可用浓酸浓碱腐蚀表面。腐蚀好以后再洗掉其余的光刻胶。现在为了得到细微的光刻线条使用紫外线甚至X射线作为光源。

8. 中国光刻机技术如何了啊？

中国光刻机现在达到了22纳米。在上海微电子技术取得突破之前，我国国产的光刻机一直停留在只能制造90nm制程的芯片。
这次我国直接从90nm突破到了22nm也就意味着我国在光刻机制造的一些关键核心领域上已经实现了国产化。而自己掌握核心技术有多重要自然不言而喻，在突破关键领域以后，更高阶的光刻机的研发速度只会越来越快。国产光刻机突破封锁，成功研制22nm光刻机，中国芯正在逐渐崛起。

高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种，分辨率通常七纳米至几微米之间，高端光刻机号称世界上最精密的仪器，世界上已有1.2亿美金一台的光刻机。高端光刻机堪称现代光学工业之花，其制造难度之大，全世界只有少数几家公司能够制造。