真空技术的真空简介

1. 真空技术的真空简介

真空是指低于大气压力的气体的给定空间，即每立方厘米空间中气体分子数大约少于两千五百亿亿个的给定空间。真空是相对于大气压来说的，并非空间没有物质存在。用现代抽气方法获得的最低压力，每立方厘米的空间里仍然会有数百个分子存在。气体稀薄程度是对真空的一种客观量度 ，最直接的物理量度是单位体积中的气体分子数。气体分子密度越小，气体压力越低，真空就越高。但由于历史原因，量度真空通常都用压力表示。1真空常用帕斯卡（Pascal）或托尔（Torr）做为压力的单位。

2. 真空技术的应用领域

地球上的真空环境在地球上，通常是对特定的封闭空间抽气来获得真空，用来抽气的设备称为真空泵。早先制成的真空泵，抽气速度不大，极限真空低，很难满足生产和科学试验的需要。后来相继制成一系列抽气机理不同的真空泵，抽速和极限真空都得到不断的提高。如低温泵的抽气速率可达60000升/秒，极限真空可达千亿分之一帕数量级。需要为了保证真空系统能达到和保持工作需要的真空，除需要配备合适的、抽气性能良好的真空泵以外，真空系统或其零部件还必须经过严格的检漏，以便消除破坏真空的漏孔。低(粗)真空、中真空和高真空系统一般用气压检漏 ；对于超高真空系统，在采用一般检漏法粗检以后，还要采用灵敏度较高的检漏仪，如卤素检漏仪和质谱检漏仪来检漏。应用随着真空获得技术的发展，真空应用日渐扩大到工业和科学研究的各个方面。真空应用是指利用稀薄气体的物理环境完成某些特定任务。有些是利用这种环境制造产品或设备，如灯泡、电子管和加速器等。 这些产品在使用期间始终保持真空；而另一些则仅把真空当作生产中的一个步骤，最后产品在大气环境下使用，如真空镀膜、真空干燥和真空浸渍等。真空的应用范围极广，主要分为低真空、中真空、高真空和超高真空应用。低真空是利用低(粗)真空获得的压力差来夹持、提升和运输物料，以及吸尘和过滤，如吸尘器、真空吸盘 。中真空一般用于排除物料中吸留或溶解的气体或水分、制造灯泡、真空冶金和用作热绝缘。如真空浓缩生产炼乳，不需加热就能蒸发乳品中的水分。真空冶金可以保护活性金属，使其在熔化、浇铸和烧结等过程中不致氧化，如活性难熔金属钨、钼、钽、铌、钛和锆等的真空熔炼；真空炼钢可以避免加入的一些少量元素在高温中烧掉和有害气体杂质等的渗入，可以提高钢的质量。高真空可用于热绝缘、电绝缘和避免分子电子、离子碰撞的场合。高真空中分子自由程大于容器的线性尺寸，因此高真空可用于电子管、光电管、阴极射线管、X 射线管、加速器、质谱仪和电子显微镜等器件中，以避免分子、电子和离子之间的碰撞。这个特性还可应用于真空镀膜 ，以供光学、电学或镀制装饰品等方面使用。外层空间的能量传输与超高真空中的能量传输相似，故超高真空可用作空间模拟。在超高真空条件下，单分子层形成的时间长(以小时计)，这就可以在一个表面尚未被气体污染前 ，利用这段充分长的时间来研究其表面特性，如摩擦、粘附和发射等。

3. 真空技术的发展历史

远在1643年，意大利物理学家托里拆利发现，真空和自然空间有大气和大气压力存在。他将一根一端封闭的长玻璃管灌满汞，并倒立于汞槽中时，发现管中汞面下降，直至与管外的汞面相差76厘米时为止。托里拆利认为，玻璃管汞面上的空间是真空，76厘米高的汞柱是因为存在大气压力的缘故。1650年，德国的奥托·冯·格里克制成活塞真空泵。1654年，他在马德堡进行了著名的马德堡半球试验：用真空泵将两个合在一起的、直径为14英寸(35.5厘米)的铜半球抽成真空，然后用两组各八匹马以相反方向拉拽铜球，始终未能将两半球分开。这个著名的试验又一次证明，空间有大气存在，且大气有巨大的压力。为了纪念托里拆利在科学上的重大发现和贡献，以往习用的真空压力单位就是用他的名字命名的。19世纪中后期，英国工业革命的成功，促进了生产力和科学实验发展，同时也推动了真空技术的发展。1850年和1865年，先后发明了汞柱真空泵和汞滴真空泵，从而研制成了白炽灯泡(1879)、阴极射线管(1879)、杜瓦瓶(1893)和压缩式真空计(1874)。压缩式真空计的应用首次使低压力的测量成为可能。20世纪初，真空电子管出现，促使真空技术向高真空发展。1935～1937年发明了气镇真空泵、油扩散泵和冷阴极电离计。这些成果和1906年制成的皮拉尼真空计至今仍为大多数真空系统所常用。1940年以后，真空应用扩大到核研究(回旋加速器和同位素分离等)、真空冶金、真空镀膜和冷冻干燥等方面，真空技术开始成为一个独立的学科。第二次世界大战期间，原子物理试验的需要和通信对高质量电真空器件的需要，又进一步促进了真空技术的发展。

4. 真空电子技术的介绍

《真空电子技术：信息化武器装备的心脏（第2版）》着重论述真空电子技术在军事信息装备中的应用。主要内容有：真空电子技术概论；速调管；行波管；正交场微波管；高功率微波源；气体放电器件；阴极和热子组件；真空微电子学；微波管发射机；微波管发射机电源；脉冲调制器；微波管发射机的控制、保护和监测；军用微波系统等。读者对象：从事军事电子系统和广播电视、卫星通信、计算机终端、工业加热等民用系统研究、制造、使用的有关人员、各级领导和计划管理人员。

5. 真空技术的研究内容是什么

真空技术是建立低于大气压力的物理环境，以及在此环境中进行工艺制作、物理测量和科学试验等所需的技术。

真空技术主要包括真空获得、真空测量、真空检漏和真空应用四个方面。在真空技术发展中，这四个方面的技术是相互促进的。

6. 真空系统的应用

化工及制药用途真空系统真空干燥系统蒸馏提纯工艺真空系统驾驶舱、多功能车间及实验室防腐真空系统钢、铝除气用真空系统涂料涂层工艺用真空系统化工流程用真空系统环境工程用途真空系统污泥再生工艺用真空系统废油净化浓缩工艺用真空系统乳剂、油类真空分馏真空系统溶剂回收真空系统汽油蒸汽回收真空系统塑料工业用途真空系统塑料制造合成工艺用特殊真空系统PVC除气及批量生产用真空系统挤压机除气用真空系统不同用途的特殊进口、出口分离器中央真空供给用真空系统中央真空系统及排气机组电子行业真空系统医院及实验室中央真空系统印刷业真空系统食品包装中央真空系统特殊真空系统饮料灌输工艺用真空系统气力及玻璃运输用真空系统

7. 真空系统

质谱技术要求离子具有较长的平均自由程，以便离子在通过仪器的途径中与另外的离子、分子或原子碰撞的概率最低，由此精确控制离子的运动轨迹，保证离子束有良好的聚焦，得到应有的分辨率和灵敏度。在一个系统中，离子的平均自由程与该系统的压力，即真空度有关。在质谱分析中，要使被测离子在飞越离子源到检测器这一距离的过程中与中性气体分子不发生碰撞，其平均自由程必须大于离子从离子源到达检测器的距离。因此，质谱仪必须置于一个真空系统中。一般ICP-MS仪器的真空度大约为133.3×10-6Pa，离子的平均自由程为50 m。
ICP-MS采用一种称为“差压抽气”的技术，通过几个分立的真空级使压力逐渐降至要求的值。因此，使用这种方式时，仪器需要三个隔离孔隙(分别为采样锥、截取锥和差压抽气隔离孔)将不同的真空区域隔开，每级都有自己的密封真空室和抽气泵。
第一级真空室，即接口处，采用一个机械泵，大量被提取的气体在此级被排出。由于泵速较低，可用一个较长而细的连接管道而不致引起真空室中的泵速损失过多。此级压力可用一个热偶规加以粗略检测，压力一般为1.5×133.3 Pa。在装有离子透镜的第二级真空室，压力约为133.3×10-3～133.3×10-4Pa。这级真空的气体实际上全部来自通过截取锥的等离子体。第三级为四极杆和检测器系统，需要真空压力约为133.3×10-6Pa。第二、三两级真空室采用涡轮分子泵实现，一般用电离真空规检测其压力。现在，有的四极杆ICP-MS仪器采用一个高效二合一涡轮分子泵维持从离子聚焦系统到四极杆和检测器系统的真空。

8. 真空系统的简介

真空系统。是由真空泵、PLC程序控制系统、储气罐、真空管道、真空阀门、境外过滤总成等组成的成套真空系统。目前，该系统广泛应用于电子半导体业、光电背光模组、机械加工等行业。该真空系统出厂时已经包括了抽速控制、进气过滤、主要运行数据显示、运行保护及远程控制接口等。只需要在现场进行简单的连接电源和管道,即可以组成一个完整的真空系统。该真空系统的控制系统由先进的PLC控制系统经过编程后组成,以触摸屏为人机界面,实现对真空系统、工件行走、磁控靶、工艺设定和执行、报警保护系统等的全自动化控制。